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康复教育
作者:admin   来源:未知   发布时间:2018-01-30    发布人::admin

美研究发现与自闭症有关的表观遗传性基因修饰


    2018年1月16日,在美国《科学》杂志上刊登一期名为《Signaling》(信号)的一篇文章。
    文章阐述自闭症谱系障碍(ASD)是一种常见的神经发育障碍,与其有关的遗传因素,由表观遗传学决定。表观遗传学通过对DNA或染色体进行基因修饰,在不改变DNA序列的情况下对基因表达进行调控。ASD患者的某些基因改变影响了大脑神经回路的发育,从而损害了某些学习能力。
    美国研究人员使用一种名叫“微分富集扫描(DEScan)”的技术,通过小鼠研究发现了与ASD有关的表观遗传性基因修饰来源,并证明这一新技术可以广泛用来研究与学习障碍有关的遗传因素。
    《科学》(英语:Science)是美国科学促进会(英语:American Association for the Advancement of Science,AAAS)出版的一份学术期刊,为全世界最权威的学术期刊之一。《科学》是发表最好的原始研究论文、以及综述和分析当前研究和科学政策的同行评议的期刊之一。
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